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Influence of Si content on nano-structured Ti-Si-N films coated by pulsed-d.c.plasma enhanced CVD?

作者:Dayan Ma, Shengli Ma, Kewei Xu

期刊名称:SURF COAT TECH

卷起页:2004,184(2-3):182-187

影响因子:1.432

收录:1

出版时间:0000-00-00

第一署名单位:1

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